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深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
公司规模: 100 - 499人
公司性质: 民营企业
所属行业: IT行业-计算机、互联网、通讯、电子、仪器仪表等
所在地区: 广东-深圳市-坪山区
产品
等离子增强化学气相沉积水平镀膜系统
2019-05-16 15:51:14
采用等离子的方法使反应气体活性增加,提升反应速度,从而实现化学反应和分子沉积成膜。可以制备碳化硅/氮化硅/氮碳化硅/二氧化硅/非晶硅/氧化铝等多种薄膜,可在半导体和光伏应用。
低压水平扩散氧化系统
2019-05-16 15:50:22
在低压氛围下,实现化学反应和分子沉积成膜。成膜后可以通过高温加热扩散,从而实现硅片表面掺杂的功能。可以制备氧化硅/硼硅玻璃/磷硅玻璃等薄膜,也可以实现硅片表面磷掺杂,硼掺杂等。